Advanced Micro Devices (AMD) gab vor kurzem bekannt das es ihnen gelungen ist den kleinsten Duoble-Gate Transistor herzustellen, der je mit Standardtechnologie gebaut wurde. Mit einer grösse von Zehn Nanometern (ein zehn Milliardstel eines Meters) ist er somit 6 mal kleiner als der bisher kleinste produzierte. Das gute an dieser Entwicklung? - in Zukunft können so anstatt 100Millionen eine Milliarde Transistoren auf eine Chipfläche gebracht werden was bedeutet dass es bald viel leistungsfähigere Prozessoren geben kann als bisher.
Noch ein paar interessante Hintergrundinformationen von AMD direkt:
Transistoren sind winzige Schalter, die bei den gegenwärtigen Mikroprozessoren die integrierten Schaltkreise bilden. Die Struktur von Double Gate Transistoren verdoppelt effektiv den Strom, der durch einen Transistor geleitet werden kann. Das Fin Field Effect Transistor Design (FinFET) basiert auf einer dünnen, vertikalen „Siliziumlamelle“, die den Leckstrom minimiert, solange der Transistor im AUS-Stadium ist. Ein solches Design ermöglicht, neue Chips mit mehr Leistung und immer kleineren Maßen herzustellen.
„Die Transistorentwicklung ist entscheidend, wenn es darum geht, immer leistungsfähigere Produkte für unsere Kunden zu entwickeln”, so Craig Sander, Vice President Technology Development von AMD. „Die gesamte Halbleiterindustrie arbeitet mit Hochdruck daran, den wachsenden Herausforderungen gerecht zu werden, die bei der Entwicklung neuer Transistoren entstehen, die kleiner und leistungsstärker sind und zugleich nur eine geringe Abweichung von den heutigen Standardherstellungsverfahren aufweisen dürfen. Der FinFET Transistor beweist, dass wir weiterhin leistungsstarke Produkte liefern können, ohne die Basistechnologie unserer Industrie verlassen zu müssen. “
Der zehn Nanometer Complementary Metal Oxide Semiconductor Fin Field Effect Transistor (CMOS FinFET) von AMD ist das Ergebnis der gemeinsamen Forschung von AMD und der University of California in Berkeley mit Unterstützung der Semiconductor Research Corporation (SRC). Die Bausteine wurden im Submicron Development Center von AMD produziert.
„Die überlegene Kontrolle des Leckstromes machen die FinFET Transistoren zu einem attraktiven Kandidaten für zukünftige Nano CMOS Generationen, die im kommenden Jahrzehnt in die Produktion gehen sollen“, so Dr. Tsu-Jae King, Associate Professor of Electrical Engineering and Computer Sciences von der U.C. Berkeley. „FinFET hat ein enormes Potenzial, die Skalierbarkeit der CMOS Technologie zu erweitern.“
KIOXIA Europe hat die Entwicklung der neuen Enterprise-NVMe-SSDs ihrer neuen CM9-Serie bekannt gegeben und den Prototypen vorgestellt. Die Laufwerke verfügen...
Nvidias GeForce RTX 5000-Generation, die auf der diesjährigen CES vorgestellt wurde, soll neue Maßstäbe in Bezug auf Leistung und Vielseitigkeit...
Um dem stetig wachsenden Bedarf dieser Technologien nach mehr Speicher gerecht zu werden, erweitert Western Digital die WD Red Pro-...
ViewSonic stellt mit dem VA3820C einen neuen großformatigen Monitor vor, der speziell für produktives Arbeiten im Büro oder Homeoffice konzipiert...
Für viele Gitarristen beginnt die Klangsuche beim Verstärker und endet beim Pedalboard. Der Lautsprecher wird dabei oft stiefmütterlich behandelt –...
Mit der Einführung der RTX 5070 Ti rollt Nvidia die neue Blackwell-Architektur auch in niedrigeren Preisregionen aus. Wir haben uns einen frischen KFA2-Boliden mit 1-Click OC und schicker RGB-Beleuchtung angesehen.
Mit der GeForce RTX 5080 X3 OC von INNO3D haben wir ein weiteres Custom-Design auf Basis der neuen Blackwell-Architektur im Testlab empfangen. Mehr zum Praxistest des Boliden in unserem Artikel.
Die neue 2024er-Version der EVO Plus microSDXC-Speicherkarte von Samsung ist mit bis zu 1 TB erhältlich und bietet 160 MB/s lesend, statt 130 MB/s wie beim Vorgänger aus 2021. Mehr dazu im Test.
Nachdem wir vor ein paar Tagen und pünktlich zur Marktverfügbarkeit die RTX 5080 1-Click OC von KFA2 angetestet haben, folgt nun der gewohnt ausführliche Review des Blackwell-Boliden.